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低溫等離子廢氣處理設(shè)備

基本參數(shù)
型號:HT-DD-2500 材質(zhì):碳鋼
過濾精度: 根據(jù)氣源選擇 公稱壓力: 0.6Mpa
過濾介質(zhì): 有毒有害廢氣臭氣 結(jié)構(gòu)形式: 箱式

產(chǎn)品簡介：

低溫等離子廢氣處理設(shè)備的產(chǎn)品簡介：低溫等離子廢氣處理設(shè)備采用脈沖高壓高頻等離子體電源和齒板放電裝置,使其產(chǎn)生高強度、高濃度、高電能的活性自由基,在毫秒...

產(chǎn)品簡介

低溫等離子廢氣處理設(shè)備采用脈沖高壓高頻等離子體電源和齒板放電裝置，使其產(chǎn)生高強度、高濃度、高電能的活性自由基,在毫秒級的時間內(nèi),瞬間對有害廢分子進行氧化還原反應(yīng),將廢氣中的大部分污染物降解成二氧化碳和水及易處理的物質(zhì)。同時，也可以和濾筒除塵器相互配合使用，達(dá)到更好的凈化效果。
低溫等離子體降解污染物是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用,使污染物分子在極短的時間內(nèi)發(fā)生分解,并發(fā)生后續(xù)的各種反應(yīng)以達(dá)到降解污染物的目的。一般氣體放電,將會產(chǎn)生等離子,而這種放電現(xiàn)像就是通過某種機制使一個或者多個電子從氣體原理或分子中分離出來,形成氣體媒質(zhì),這種媒質(zhì)就稱為電離氣體，如果外電場產(chǎn)生了電離氣體,傳導(dǎo)電流就形成了,這種現(xiàn)象就被稱為氣體放電。而這種凈化設(shè)備的技術(shù)，就是工業(yè)廢氣處理最新的一種原理。設(shè)備反應(yīng)過程中能量的傳遞大致如下:
(1)電場+電子- +高能電子;
(2) 高能電子+分子(或原子)→(受激原子、受激基團、游離基團)活性基團
(3)活性基團+分子(原子)→生成物+熱
(4) 活性基團+活性基團→生成物+熱
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技術(shù)參數(shù)

低溫等離子凈化器基本參數(shù)
品牌廠家 海特濾器 型號 HT-DD-2500
處理風(fēng)量 1500-2500m3/h 凈化效率 ≥95%
模塊數(shù)量 1組 尺寸 875*925*760
進風(fēng)口 295mm 功率 300W


問：什么是低溫等離子廢氣處理設(shè)備？
答：低溫等離子體降解污染物是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用，使污染物分子在極短的時間內(nèi)發(fā)生分解，并發(fā)生后續(xù)的各種反應(yīng)以達(dá)到降 解污染物的目的。
問：同其他的異味氣體治理方法（活性炭吸附、液體吸收、燃燒法及生物法等）相比較，有哪些特點？
答：1、無需添加任何物質(zhì)：低溫等離子體廢氣處理是一種干法凈化過程，是一種全新的凈化過程，運行過程無需添加任何添加劑，不產(chǎn)生廢水、廢渣，不會導(dǎo)致二次污染。
2、適應(yīng)性強：持久的凈化功能，無須專人看管?？蛇m應(yīng)高濃度、大氣量、不同氣態(tài)物質(zhì)的凈化處理，可在高溫250℃,低溫-50℃的環(huán)境內(nèi)凈化區(qū)均可運轉(zhuǎn),特別是在潮濕,甚至空氣
3、濕度飽和的環(huán)境下仍可正常運行，每天24小時連續(xù)工作，長期運行穩(wěn)定可靠。
4、低耗節(jié)能：運行費用低廉、省電是“低溫等離子體”專利核心技術(shù)之一,處理1000M3/h臭氣，耗電僅0.25度。
5、設(shè)備組合性強：“低溫等離子體”設(shè)備重量輕，體積小，可按場地要求立放、臥放，可根據(jù)廢氣濃度、流量、成份進行串、并組合設(shè)計達(dá)到完全的廢氣凈化。
6、設(shè)備使用壽命長：本設(shè)備由不銹鋼材，銅材、鉬材、環(huán)氧樹脂等材料組成，抗氧化性強，對酸、堿氣體、潮濕環(huán)境等具有良好的防腐性能。使用壽命長達(dá)15年以上。

產(chǎn)品特點

1.具有一次性凈化效率高 ,能同時凈化多種污染物;
2.防火性能采用開關(guān),電源,電路三重自動保護,持久的凈化功能,無須專人看管;
3.設(shè)備體積小,結(jié)構(gòu)緊湊,工藝成熟;
4.設(shè)備投資少,運行成本低;
5.安全穩(wěn)定,維護方便,使用壽命長;
6.凈化效率高,無二次污染。

應(yīng)用領(lǐng)域

1.治理油煙粉塵領(lǐng)域,如大型火力發(fā)電廠、卷煙廠、紡織品廠、印刷廠、造紙廠、鋼鐵廠、水泥廠等。
2.治理廢氣、異味氣體領(lǐng)域,如污水處理廠、泵站、化工廠、制藥廠、香精廠、屠宰場等。
3.空氣凈化領(lǐng)域,如醫(yī)院、餐飲、賓館、娛樂場、車船,候車室等公共場所等。